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光學膜厚儀作為現代材料科學中至關重要的精密測量工具，其核心原理基于光的干涉現象與薄膜光學特性。當一束光波照射至透明或半透明薄膜表面時，部分光在膜層上表面反射，另一部分穿透膜層后在下表面反射，兩束反射光因光程差產生干涉現象。通過分析干涉圖樣的...
一、用途光刻機是芯片制造的核心設備之一，按照用途可以分為好幾種：有用于生產芯片的光刻機；有用于封裝的光刻機；還有用于LED制造領域的投影光刻機。二、工作原理在加工芯片的過程中，光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，然后使用化學方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經過一次光刻的芯片可以...
現在光刻機與我們的生活息息相關，我們用的手機，電腦等各種各樣的電子產品，里面的芯片制作離不開光刻機。如今的世界是一個信息社會，各種各樣的信息流在世界流動。而光刻機的技術是保證制造承載信息的載體。在社會上擁有不可替代的作用。光刻機的技術應用領域：平版印刷術用于在用戶不希望影響其整個樣品的工藝步驟（主要是沉積或蝕刻）之前對樣品進行構圖。在蝕刻之前，使用光刻技術來形成抗蝕劑保護層，該保護層僅將材料保留在存在抗蝕劑的位置（負圖案）。在使用沉積光刻進行剝離之前，在沉積之后剝離抗蝕劑，僅...
近半個世紀以來，硅一直是世界科技繁榮的焦點，芯片制造商幾乎都在壓榨它的性能。傳統上用于制造芯片的技術在2005年左右達到極限，芯片制造商不得不尋求其他技術，將更多的晶體管塞到硅上，從而制造出更強大的芯片。光刻機必須把工程師繪制的電路板精確無誤地投到硅晶圓上，不允許有絲毫誤差，可見難度之高！將晶體管封裝到芯片上的傳統工藝被稱為“深紫外光刻”（DUV），這是一種類似攝影的技術，通過透鏡聚焦光線，在硅晶片上刻出電路圖案。受到物理定律的影響，這種技術可能很快就會出現問題。利用極紫外光...
光刻技術與我們的生活息息相關，我們用的手機、電腦等各種各樣的電子產品，里面的芯片制作離不開光刻技術。如今的世界是一個信息社會，而光刻技術是制造承載信息的載體的關鍵技術，具有不可替代的作用。一、光刻技術的原理光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區做出來。利用光刻機上紫外光源發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上的圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。這就是光刻的作用，類似照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上，而...
光刻機應用的光刻技術是將二維圖案轉印到平坦基板上的方法。可以通過以下兩種基本方法之一實現圖案化：直接寫入圖案，或通過掩模版/印章轉移圖案。限定的圖案可以幫助限定襯底上的特征（例如蝕刻），或者可以由沉積的圖案形成特征。通過計算機輔助設計（CAD）定義圖案模式。多數情況下，這些特征是使用抗蝕劑形成的，可以使用光（使用光致抗蝕劑），電子束（使用電子束抗蝕劑）或通過物理沖壓（不需要抗蝕劑，也叫納米壓印）來定義圖案特征。圖案的特征可以被轉移到另一個層蝕刻，電鍍或剝離。光刻機的用料：1、...