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光學膜厚儀作為現代材料科學中至關重要的精密測量工具，其核心原理基于光的干涉現象與薄膜光學特性。當一束光波照射至透明或半透明薄膜表面時，部分光在膜層上表面反射，另一部分穿透膜層后在下表面反射，兩束反射光因光程差產生干涉現象。通過分析干涉圖樣的...
奧地利EVGroup（EVG）宣布，為形成手機用相機模塊高耐熱鏡頭，芬蘭HeptagonOy采用了EVG的光刻機(MaskAligner)“IQAligner”。EVG高級副總裁HermannWaltl表示，Heptagon采用的是支持300mm晶圓的裝置。該裝置已提供給Heptagon的制造子公司——新加坡HeptagonMicro-OpticsPte。Heptagon是于1993年成立的風險企業,目的是將芬蘭赫爾辛基大學與瑞士約恩蘇大學的微型光學元件的研究成果投入實用。該...
在微電子、納米、半導體領域為晶片接合和光刻技術提供設備技術方案的供應商EVG近期推出了NT系列光刻機和對準測試機，這是一個全新的、已經被生產廠家驗證過的新型光刻曝光機以及晶圓對晶圓(W2W)接合曝光和測試系統，可滿足用戶對更高光刻精度的需求。業內向更小結構和更密集封裝生產轉型的趨勢帶來了眾多的新挑戰，如對更高精度的要求，因為這將嚴重影響設備的偏差律，并最終影響生產效率和增加成本。新的EVGNT系列光刻機對準機可極大提高對準精度-范圍從1微米至0.1微米-從而為生產廠家在先進微...
一、簡介第四次工業革命以數年前尚不存在的技術席卷了我們的生活，其中一些在幾十年前甚至無法想象。自動駕駛汽車已經在公共街道上進行測試；無人機正在調查地形，拍攝視頻，派發包裹；由專業人士和業余愛好者創建的大量視頻內容正在被拍攝和發布；固定和移動監視變得司空見慣；服務器的體量變得驚人的龐大，4G網絡正在被5G補充或替代。所有這些趨勢的共同之處在于，它們生成的大量數據必須比以往任何時候更快、更可靠地進行處理、傳輸和存儲。上述這些新應用中，許多將需要高級邏輯器件來實現更高的功耗和處理速...
納米壓印光刻系統制造商SwissLithoAG今天宣布一種聯合解決方案，可以生產最小到單納米級的3D結構。該方案最初在由歐盟第七框架計劃資助的“超越CMOS器件的單納米制造（SNM）”項目中得到證明，該方案涉及SwissLitho的新型NanoFrazor熱掃描探針光刻系統，以生產具有3D結構的主模板用于納米壓印光刻系統和EVG。目標應用：EVG和SwissLitho最初將以聯合解決方案為目標，以開發衍射光學元件和其他相關光學組件，以支持光子學，數據通信，增強/虛擬現實和其他...
光刻技術是將二維圖案轉印到平坦基板上的方法。可以通過以下兩種基本方法來實現圖案化：直接寫入圖案，或通過掩模版/印章轉移圖案。設定的圖案可以幫助生成襯底上的特征，或者可以由沉積的圖案形成特征。通過計算機輔助設計（CAD）定義圖案模式。多數情況下，這些特征是使用抗蝕劑形成的，可以使用光（使用光致抗蝕劑），電子束（使用電子束抗蝕劑）或通過物理壓印（不需要抗蝕劑，也叫納米壓印）來定義圖案特征。圖案的特征可以被轉移到一個基板，再進行蝕刻，電鍍或剝離。1.技術領域根據所需的特征，有幾種不...