當前位置：首頁 > 技術文章
光學膜厚儀作為現代材料科學中至關重要的精密測量工具，其核心原理基于光的干涉現象與薄膜光學特性。當一束光波照射至透明或半透明薄膜表面時，部分光在膜層上表面反射，另一部分穿透膜層后在下表面反射，兩束反射光因光程差產生干涉現象。通過分析干涉圖樣的...
0引言發光二極管（light-emittingdiode，LED）照明是利用半導體的電致發光發展而來的固態照明技術。自1907年第一只發光二極管問世，到20世紀90年代，人們對LED的研究進展緩慢，期間使用GaAs和InP等第二代半導體材料為光源的LED僅應用在光電探測及顯示領域。直到20世紀90年代中期，日本的中村修二發明了世界上DI一只超高亮度的GaN基LED，照明領域的大門才向LED打開。GaN作為繼第一代半導體材料Si，Ge和第二代半導體材料GaAs，InP等之后的第...
01引言數據中心、電信網絡、傳感器和用于人工智能高級計算中的新興應用，對于低功耗和低延遲的高速數據傳輸的需求呈現出指數級增長。我們比以往任何時候都更加依賴這些應用來確保這個世界更安全、更高效。在所有這些市場中，硅光子學(SiPh)在實現超高帶寬性能方面發揮著關鍵作用。因此，開發能夠經濟高效地擴大硅光子產品生產的解決方案比以往任何時候都更加重要。雖然通過使用標準半導體大規模生產工藝和現有基礎設施，SiPh的晶圓制造能力已經成熟，但SiPh的封裝解決方案仍然是大規模商業化的關鍵瓶...
相較上一代平臺，全新自動掩模對準系統（IQAlignerNT）產出率和對準精度提升兩倍，為EVG光刻解決方案帶來了全新應用微機電系統（MEMS）、納米技術以及半導體市場晶圓鍵合和光刻設備LINGXIAN供應商EVG集團（EVG）近日宣布推出IQAlignerNT，旨在針對大容量XIANJIN封裝應用推出的全新自動掩模對準系統。IQAlignerNT光刻機配備了高強度和高均勻度曝光鏡頭、全新晶圓處理硬件、支持全局多點對準的全200毫米和全300毫米晶圓覆蓋、以及優化的工具軟件。...
1.介紹對電子設備性能和靈活性的新要求正在使制造基礎架構從傳統的基于掩模的光刻技術轉變為用于高級封裝和異構集成的數字光刻技術。片上系統正在從單片解決方案轉向封裝，小芯片和功能塊中的模塊化系統。因此，對于可擴展和通用后端光刻的需求不斷增長，以實現封裝和系統級的互連。為了滿足這一新的行業愿景，需要能夠通過高級封裝快速集成新穎功能元素的大規模生產新工具。大批量制造（HVM）行業必須超越保守的芯片圖案設計，并進入數字光刻技術的新時代。EVGroup開發了MLE™（無掩模曝...
一、優勢簡介：MicroSense的高精度電容式位移傳在感器，除具有一般非接觸式儀器的共性外，還具有信噪比高、靈敏度高、零漂小、頻響寬、非線性小、精度穩定性好、抗電磁干擾能力強、使用方便等優點，在國內研究所、高等院校、企業得到廣泛應用，成為科研、教學和生產中一種非常重要的測試儀器。二、特點：1、可實現近距離、高精度、非接觸式位置測量2、分辨率可達亞納米級直至皮納米級，在所有商用電容傳感器品牌中，噪音ZUI低3、提供多種型號的探頭，以滿足高穩定性、線性或高測量帶寬等不同需求4、...